Patent (광투과 에지영역에서의 광투과율을 이용한) > 특허 (Patent)

Patent - 광투과 에지영역에서의 광투과율을 이용한 실리콘 웨이퍼 두께 측정장치 및 그 방법 / An Apparatus For Measuring Thinkness of Silicon Wafer Using Light Transmittance At Light Transmission Edge Range And A Method Therof